(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123447505.7 (22)申请日 2021.12.3 0 (73)专利权人 苏州清越光电科技股份有限公司 地址 215300 江苏省苏州市昆山市高新区 晨丰路18 8号 专利权人 义乌清越光电技 术研究院有限公 司 (72)发明人 谢斌　胡光明　蔡全华　 (74)专利代理 机构 北京三聚阳光知识产权代理 有限公司 1 1250 专利代理师 刘海尧 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 5/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01)F26B 21/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种基板清洗机构 (57)摘要 本实用新型提供一种基板清洗机构， 包括： 第一清洗槽和第二清洗槽； 滚轴传送带， 滚轴传 送带穿过第一清洗槽和第二清洗槽， 滚轴传送带 适于带动放置于滚轴传送带的基板移动经过第 一清洗槽和第二清洗槽； 第一清洗槽中设置有第 一清洗液， 第一清洗液的液面高于滚轴传送带的 上表面， 基板放置于滚轴传送带时至少部分浸入 第一清洗 液； 第一清洗液包括酸清洗液或碱清洗 液； 第二清洗槽具有第二清洗槽入口， 第二清洗 槽靠近第二清洗槽入口设置有第二风机， 第二风 机适于向第二清洗槽入口处的滚轴传送带吹送 气体。 本实用新型的基板清洗机构可有效减少第 二清洗槽中的清洗液污染， 减少污水处 理压力。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 217616325 U 2022.10.21 CN 217616325 U 1.一种基板清洗 机构， 其特 征在于， 包括： 第一清洗 槽和第二清洗 槽； 滚轴传送带， 所述滚轴传送带穿过所述第一清洗槽和所述第二清洗槽， 所述滚轴传送 带适于带动放置 于所述滚轴传送带的基板移动经 过所述第一清洗 槽和所述第二清洗 槽； 所述第一清洗槽 中设置有第 一清洗液， 所述第 一清洗液的液面高于所述滚轴传送带的 上表面， 所述基板放置于所述滚轴传送带时至少部分浸入所述第一清洗液； 所述第一清洗 液包括酸清洗液或碱清洗液； 所述第二清洗槽具有第 二清洗槽入口， 所述第 二清洗槽靠近第 二清洗槽入口设置有第 二风机， 所述第二 风机适于向所述第二清洗 槽入口处的滚轴传送带吹送气体。 2.根据权利要求1所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述第一清洗槽远离所述第 二清洗槽一侧设置有第 一风机， 所述第 一风机适于向所述 滚轴传送带吹送气体。 3.根据权利要求1所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述第二清洗槽 中设置有第 二清洗液， 所述第 二清洗液的液面高于所述滚轴传送带的 上表面， 所述基板放置于所述滚轴传送带时至少部分浸入所述第二清洗液； 所述第二清洗 液包括水。 4.根据权利要求2所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述第一风机包括第 一出风口， 所述第 一出风口的朝向与所述滚轴传送带的延伸方向 呈第一夹角； 所述第一夹角为3 0°～60°。 5.根据权利要求 4所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述第一夹角为 45°。 6.根据权利要求1所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述第二风机包括第二出风口， 所述第二出风口朝向所述第二清洗槽入口； 所述第二 出风口的朝向与所述滚轴传送带的延伸方向呈第二夹角； 所述第二夹角为3 0°～60°。 7.根据权利要求6所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述第二夹角为 45°。 8.根据权利要求1所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述第二清洗槽远离所述第 一清洗槽一侧还设置有二流体喷嘴； 所述二流体喷嘴适于 向所述滚轴传送带 上的基板喷射 二流体； 所述 二流体为压缩空气和高压水。 9.根据权利要求8所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述二流体喷嘴的朝向与所述滚轴传送带的延伸方向呈第三夹角； 所述第三夹角为75 °～105°。 10.根据权利要求9所述的基板清洗 机构， 其特 征在于， 所述第三夹角为90 °。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217616325 U 2一种基板清洗机构 技术领域 [0001]本实用新型 涉及显示 面板制造技 术领域， 具体涉及一种基板清洗 机构。 背景技术 [0002]在显示面板制造工艺中， 用于在其上形成功能层和发光层的基板被大量使用。 基 板在使用前需要进行清洗以去除表面附着的颗粒， 避免在形成功能层和发光层时造成干扰 或破坏， 使得最 终成型的结构层出现缺陷。 在基板清洗工艺中， 通常的清洗机构如图1所示： 待清洗的基板140放置于滚轴传送带130上， 由滚轴传送带130带动前进， 经过第一清洗槽 110和第二清洗槽120。 其中在第一清洗槽110中具有清洗液， 清洗液通常为酸液。 第一清洗 槽中设置有第一风机111。 待清洗的基板140在 滚轴传送带的带动下前进时至少部 分的进入 清洗液中。 同时第一风机111向待清洗的基板140吹风， 一方面增加清洗液的流动使清洗液 与基板充分接触， 另一方面避免清洗液在基板上存留， 对基板造成腐蚀。 在第二清洗槽120 中设置有第二喷头121， 第二喷头121向待清洗的基板表 面喷淋清水以辅助去除清洗液的残 留。 这样的清洗机构， 会使基板140表面存留的清洗液大量进入第二清洗槽120中， 长期使用 中第二清洗槽中存留大量的含有清洗液的污水， 污水处理量 非常大。 因此需要一种方案， 以 减少基板清洗 工艺中对第二清洗 槽的污水积累。 实用新型内容 [0003]因此， 本实用新型提供一种基板清洗机构， 以减少基板清洗工艺中对第二清洗槽 的污水积累。 [0004]本实用新型提供一种基板清洗机构， 包括： 第一清洗槽和第二清洗槽； 滚轴传送 带， 滚轴传送带穿过第一清洗槽和第二清洗槽， 滚轴传送带适于带动放置于滚轴传送带 的 基板移动经过第一清洗槽和第二清洗槽； 第一清洗槽中设置有第一清洗液， 第一清洗液 的 液面高于滚轴传送带 的上表面， 基板放置于滚轴传送带时至少 部分浸入第一清洗液； 第一 清洗液包括酸清洗液或碱清洗液； 第二清洗槽具有第二清洗槽入口， 第二清洗槽靠近第二 清洗槽入口设置有第二 风机， 第二 风机适于向第二清洗 槽入口处的滚轴传送带吹送气体。 [0005]可选的， 第一清洗槽远离第二清洗槽一侧 设置有第一风机， 第一风机适于向滚轴 传送带吹送气体。 [0006]可选的， 第二清洗槽中设置有第二清洗液， 第二清洗液的液面高于滚轴传送带的 上表面， 基板放置 于滚轴传送带时至少部分浸 入第二清洗液； 第二清洗液包括水。 [0007]可选的， 第一风机包括第一出风口， 第一出风口的朝向与滚轴传送带的延伸方向 呈第一夹角； 第一夹角为3 0°～60°。 [0008]可选的， 第一夹角为 45°。 [0009]可选的， 第二风机包括第二出风口， 第二出风口的朝向与滚轴传送带的延伸方向 呈第二夹角； 第二夹角为3 0°～60°。 [0010]可选的， 第二夹角为 45°。说　明　书 1/4 页 3 CN 217616325 U 3