(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202211067585.X (22)申请日 2022.09.01 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 115147094 A (43)申请公布日 2022.10.04 (73)专利权人 中国电子科技 集团公司信息科 学 研究院 地址 100041 北京市石景山区实兴大街金 府路30号院4号楼 (72)发明人 王皓岩　叶雨农　刘杰　李苗　 汪志强　李嵬　戴扬　 (74)专利代理 机构 北京中知法苑知识产权代理 有限公司 1 1226 专利代理师 李明　赵吉阳(51)Int.Cl. G06Q 10/10(2012.01) G06Q 50/04(2012.01) G06Q 50/18(2012.01) G06F 30/398(2020.01) (56)对比文件 CN 109635488 A,2019.04.16 CN 109635488 A,2019.04.16 CN 111930365 A,2020.1 1.13 CN 114118004 A,202 2.03.01 审查员 张曼 (54)发明名称 异构集成微系统工艺库开发平台的开发方 法及建设方法 (57)摘要 本发明实施例提供一种异构集成微系统工 艺库开发平台的开发方法及建设方法。 异构集成 微系统工艺库开发平台为微系统产品提供异构 集成工艺PDK， 开发方法包 括： 异构集成工艺稳定 性评估流程； 异构集成工艺PDK开发环境流程； 异 构集成工艺PDK质量验证流程； 异构集成工艺PDK 开发服务体系流程。 建设方法至少包括如下之一 的设计： 平台主界面设计、 平台主要功能区设计、 平台工艺稳定性评估模块设计、 平台开发环境模 块设计、 平台开发质量验证模块设计、 平台打包 发布模块设计。 本发明实施例可提升异构集成微 系统协同研发的基础能力， 缩小芯片的设计迭代 周期， 提高设计效率， 推动芯片 级集成微系统、 功 能单元级异构集成微系统的高效研制与开发。 权利要求书2页 说明书9页 附图3页 CN 115147094 B 2022.12.27 CN 115147094 B 1.一种异构集成微系统工艺库开发平台的开发方法， 其特征在于， 所述异构集成微系 统工艺库开发平台为 微系统产品提供异构集成工艺P DK； 所述开发方法包括： 异构集成工艺稳定性评估流 程； 异构集成工艺P DK开发环境 流程； 异构集成工艺P DK质量验证流 程； 异构集成工艺P DK开发服 务体系流 程； 所述异构集成工艺稳定性评估流 程包括： 基于输入的PDK开发需求， 建立工艺指标体系； 所述PDK开发需求至少包括： 明确关键工 艺节点、 明确工艺 技术规范、 明确S PC、 CPK指标要求、 明确用户需求； 对所述工艺指标体系开展配套的流片验证； 获得稳定性评估报告及测试报告； 所述关键工艺节点为微系统所需的关键工艺类型， 按照不同的层级进行分类， 包括二 级工艺、 一级工艺和单步工艺； 根据不同的专业领域划分关键工艺， 至少包括如下之一： 多 芯片圆片重构技 术、 微波导工艺、 多重布线工艺、 键合工艺； 所述工艺 技术规范为采用的成套工艺 技术流程、 工艺精度及设计规范； 所述SPC、 CPK指标要求 为CPK的值 通过SPC工具得到， 且所述CPK的值满足预设条件； 所述用户需求至少包括如下之一： 器件需求数据、 集成需求数据、 系统需求数据、 多物 理场的设计需求、 性能和可靠性协同仿真的需求、 工艺加工及计量的需求。 2.根据权利要求1所述的开发方法， 其特征在于， 所述异构集成工艺PDK开发环境流程 包括： 通过需求分析和指标确定开发对象及相关指标要求； 确定PDK开发环境所需软件配置； 开展基础结构设计； 对所述基础结构开展流片验证、 样品测试及模型开发， 其中基于测试验证结果和所述 基础结构设计中的结果反 复迭代处理， 以确保开 发得到的模型的准确性并形成基础器件模 型库； 基于所述测试验证结果和所述开发得到的模型开展PDK集成开发， 得到特定软件工具 适用的PDK； 利用设计好的验证电路对所述PDK的质量进行PDK实用化验证， 其中， 当验证结果满足 电路设计指标要求时， 所述PDK可对外发布； 当验证结果不满足电路设计指标要求时， 分析 问题成因， 并针对问题进行对应修 正， 直至验证结果满足电路设计指标要求。 3.根据权利要求2所述的开发方法， 其特 征在于， 所述需求分析和指标为确定PDK中基础元器件的架构方式和基本技术指标， 至少包括 如下之一： 器件结构和类型、 模型功能、 类型和主要技术指标、 仿真模型技术指标、 工艺参 数、 衬底结构参数、 EM仿真环境参数、 版图结构和版图文件、 设计相关帮助文档、 PDK集成和 PDK文件； 所述基础结构设计为不同专业领域内的异构集成微系统基础结构， 至少包括如下之 一： 再布线、 凸点、 通 孔、 背孔、 PAD； 所述PDK集成开发为针对不同开发工具的基础架构开发， 其中开发对象至少包括如下权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115147094 B 2之一： 技术文件、 基于参数化单元PCELL的版图、 重要功能、 设计规则检查器编译规则、 其他 PDK整理工作。 4.根据权利要求1所述的开发方法， 其特征在于， 所述异构集成工艺PDK质量验证流程 包括： PDK完备性检查； 基础单元准确性检查； 电路单元验证。 5.根据权利要求 4所述的开发方法， 其特 征在于， 所述PDK完备性检查的内容至少包括如下之一： 表征器件的仿真特性的器件模型、 设计 电路原理图并形成逻辑图符号、 包含版图设计的工艺文件内容的技术文件、 对器件的基础 信息定义的器件描述格式、 经 过仿真验证的参数化单 元、 物理验证文件； 所述基础单元准确性检查的内容至少包括如下之一： 使用对应的仿真软件对开发的器 件模型进 行基础单元模型仿 真； 将基础单元流片测试结果与基础单元模型的仿 真结果进 行 标对， 确认PC ELL的正确性； 将仿真结果与测试 结果的标对形成结论， 完成相应的技 术文件。 6.根据权利要求1所述的开发方法， 异构集成工艺PDK开发服务体系流程包括： 应用推 广、 知识产权认证和平台标准认证； 其中： 所述应用推广的内容包括： 对用户开发的异构集成工艺PDK提取典型案例， 进行应用案 例制作； 采用使用手册的方式对工艺线的工艺流程及用户开发的异构集成工艺PDK使用方 法进行阐述， 进 行使用手册制作指导PDK用户使用； 在异构集 成微系统工艺库开 发平台的主 界面对该异构集成P DK进行应用推送； 所述知识产权认证的内容包括： 设计用户与工艺线用户双方在开发的关键节点进行版 本保存及知识产权确权； 为用户提供开发关键步骤的存档记录及开发过程存证； 基于所述 异构集成微系统工艺库开发平台提供的保密协定NDA基础版本进行完善保护自身知识产 权， 推广应用NDA签订； 所述平台标准认证的内容包括： 完备性检查认证、 基础单元检查认证、 电路单元检查认 证。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115147094 B 3