(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210954197.7 (22)申请日 2022.08.10 (71)申请人 威科赛乐微电子股份有限公司 地址 404000 重庆市万州区万州经开区高 峰园檬子中路2号 (72)发明人 金龙　王凤玲　雷彪　成飞　 冯永明　王敬　 (74)专利代理 机构 广州市华学知识产权代理有 限公司 4 4245 专利代理师 黄宗波 (51)Int.Cl. B08B 1/00(2006.01) B08B 1/04(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 3/08(2006.01)B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 21/00(2006.01) G01N 21/94(2006.01) (54)发明名称 一种光罩清洗检测装置及方法 (57)摘要 本发明涉及半导体器件的辅助工艺领域， 公 开了一种光罩清洗检测装置及方法， 包括： 壳体 和清洗部， 清洗部包括夹具头， 夹具头包括若干 与光罩卡合连接的顶针， 顶针和光罩之间设置有 缓冲结构， 夹具头还包括运动结构， 运动结构包 括分别连接有顶 针的第一连接杆、 第二连接杆和 第三连接杆， 第一连接杆、 第二连接杆和第三连 接杆之间通过齿轮传动。 本申请中设置多个可以 在多个方向上移动的顶针， 从而完全卡合至光 罩， 从而降低顶 针与光罩之间相对滑动造成的光 罩上的图案被损坏的概率， 顶针与光罩之间通过 缓冲结构进行连接， 降低了顶针对光罩表面的摩 擦滑损。 权利要求书1页 说明书8页 附图5页 CN 115430629 A 2022.12.06 CN 115430629 A 1.一种光罩清洗检测装置， 其特征在于， 包括： 壳体(5)和设置在所述壳体(5)内的清洗 部(2)， 所述清洗部(2)包括夹具头(231)， 所述夹具头(231)包括若干与光罩卡合连接的顶 针(2311)， 所述顶针(231 1)上设置有缓冲结构(2313)， 所述夹具头(231)还包括运动结构(2312)， 所述运动结构(2312)包括第一连接杆 (23121)、 第二连接杆(2 3123)和第三连接杆(2312 5)， 所述第一连接杆(2 3121)、 所述第二连 接杆(23123)和所述第三连接杆(23125)上分别设置有所述顶针(2311)， 所述第一连接杆 (23121)、 所述第二连接杆(23123)和所述第三连接杆(23125)之间通过齿轮传动。 2.根据权利要求1所述的光罩清洗检测装置， 其特征在于， 所述清洗部(2)还包括供液 组件(27)， 所述供液组件(27)包括药液槽(271)、 药液混合腔(272)、 药液循环腔(273)和连 接管路(274)， 所述药液槽(271)、 所述药液混合腔(272)和所述药液循环腔(273)之间依次 通过所述连接管路(274)连通。 3.根据权利要求1所述的光罩清洗检测装置， 其特征在于， 所述壳体(5)内还设置有运 输部(4)， 所述运输部(4)包括夹具单元(45)， 所述夹具单元(45)上设置有洁净顶针(453)、 污染顶针(454)， 所述洁净顶针(453)和污染顶针(454)上对应 设置有洁净顶针 保护罩(452) 和污染顶针保护罩(451)。 4.根据权利要求3所述的光罩清洗检测装置， 其特征在于， 所述污染顶针保护罩(451) 包括罩体(4511)和连接杆(4512)， 所述罩体(4511)套设在所述污染顶针(454)上， 所述罩体 (4511)与所述连接杆(4512)固定连接 。 5.根据权利 要求1所述的名字， 其特征在于， 所述清洗部(2)包括冲洗刷(22)， 所述冲洗 刷(22)包括使用时均贴合至光罩正反表 面的刷洗结构(221)和滚轮清洗结构(222)， 以及驱 动所述刷洗结构(221)和所述滚轮清洗结构(222)相对于所述光罩移动的升降驱动结构 (225)。 6.根据权利要求3所述的光罩清洗检测装置， 其特征在于， 所述壳体(5)内还设置有处 于所述运输部(4)移动路线上的检测部(3)。 7.根据权利要求5所述的光罩清洗检测装置， 其特征在于， 所述清洗部(2)还包括抖动 组件(25)， 所述抖动组件(25)包括晶振。 8.一种使用 如权利要求1 ‑7任一所述的光罩清洗装置的光罩清洗检测方法， 其特征在 于， 所述方法包括以下步骤： S1： 将光罩进行药液浸泡刷洗； S2： 检查光罩表面刷洗情况， 若检查结果为未完成刷洗则回到S1步骤， 若检查结果为完 成刷洗则继续下一 步； S3： 使用纯 水对光罩进行喷淋刷洗； S4： 检查光罩表面冲洗情况， 若检查结果为未完成冲洗则回到S3步骤， 若检查结果为完 成冲洗则继续下一 步； S5： 快速旋转光罩并吹干光 罩上的水分， 清洗 完成； 9.根据权利要求8所述的光罩清洗检测方法， 其特征在于， 吹干所述光罩上的水分步骤 中使用的气体为氮气。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115430629 A 2一种光罩清洗检测装 置及方法 技术领域 [0001]本发明涉及半导体器件的辅助 工艺技术领域， 尤其涉及 一种光罩清洗检测装置及 方法。 背景技术 [0002]光罩(光掩膜)作为曝光设备中的重要元件， 需要其存放、 搬运环境具备必需的洁 净度、 安全性和稳定性， 在半导体芯片和面板造过程中， 需要使用到各种规格的光罩， 而光 罩在存储过程中， 必须使用其专用的工具， 以保证光罩不会被污染或者损坏， 而对已经有粉 尘或有机物的光 罩则需要 进行清洗及检查之后才可以进入曝光机使用。 [0003]现有设备对光罩实行清洗或检验功能， 没有将两者结合在一起协同使用， 例如公 开号为CN114011791A提出的一种光罩清洗装置及其清洗方法， 包括机体， 设置于机体内的 置物台、 药液浸泡槽和刷洗槽， 于药液浸泡槽的上方固定安装有第一抓取模块， 刷洗槽的上 方固定安装有第二抓取模块， 于药液浸泡槽对应的位置安装有第一刷洗组件， 刷洗槽对应 的位置固定安装有第二刷洗组件。 该发明采用多槽 自动清洗模式， 能够对光罩进行多次清 洗， 但是清洗结果需要在清洗结束进行检测后才能得到。 即完成清洗后需要将光罩运送至 检测台才能进行检测， 检测 合格后投入下一环节的生产工艺； 检测不合格的光罩需要经转 运后再次清洗， 而将光 罩运送到检测台的过程无疑增 加了光罩受到污染和损耗的概 率。 [0004]并且， 在对光罩进行清洗 的时候， 由于光罩相对于用于卡合光罩的顶针来说尺寸 较大， 光罩在运动过程中往往不能实现与顶针间的相对静止， 这会导致光罩与顶针之间存 在相对滑动， 尤其时在光罩旋转清洗过程中， 顶针的相对滑动的距离会增大从而导致划伤 甚至破坏光罩上的图案对光罩产生不可恢复的影响， 而通过将顶针和光罩过度连接的方式 也会造成顶针刺穿并损伤光 罩表面。 发明内容 [0005]有鉴于此， 本发明的目的是提供一种光罩清洗检测装置及方法， 以解决上述提到 顶针容易对光罩上的图案 造成磨损的问题。 [0006]本发明通过以下技术手段解决上述技术问题： 包括： 壳体和 设置在壳体内的清洗 部， 清洗部包括夹具头， 夹具头包括若干与光罩卡合连接的顶针， 顶针和光罩的贴合处设置 有缓冲结构， 夹具头还包括运动结构， 运动结构包括分别连接有顶针的第一连接杆、 第二连 接杆和第三连接杆， 第一连接杆、 第二连接杆和 第三连接杆之 间通过齿轮结构传动连接。 本 申请通过对现有 带动光罩进行相对位移的顶针进 行改进， 首先是三个固定光罩顶角的顶针 可以分别在X、 Y、 Z三个方向上移动， 从而能够完全卡合至光罩， 顶针与光罩之间不存在缝隙 从而降低顶针与光罩之间相对滑动造成的光罩上 的图案被损坏， 进一步地， 顶针与光罩之 间的连接处通过缓冲结构进行连接， 减轻了顶针对光罩表面的摩擦滑损和顶针与光罩之间 的过度连接 。 [0007]进一步， 清洗部还包括供液组件， 供液组件包括药液槽、 药液混合腔、 药液循环腔说　明　书 1/8 页 3 CN 115430629 A 3