(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202122995051.0 (22)申请日 2021.12.01 (73)专利权人 苏州川辰环保技 术有限公司 地址 215000 江苏省苏州市吴江区东太湖 大道7070号亨通金融大厦15 04 (72)发明人 李婷　庞陆飞　吴若希　 (51)Int.Cl. C02F 9/04(2006.01) B01D 29/50(2006.01) B01D 29/01(2006.01) B01D 29/64(2006.01) B01D 29/94(2006.01) C02F 1/52(2006.01) (54)实用新型名称 一种高效率用 于半导体行业的废水处理装 置 (57)摘要 本实用新型公开了一种高效率用 于半导体 行业的废水处理装置， 包括箱体、 过滤器和支撑 块， 所述箱体的外壁安装有控制箱， 所述箱体的 顶部安装有加药箱， 所述箱 体的内壁安装有 过滤 器， 所述箱体的外壁安装有动力箱。 本实用新型 通过安装有过滤器和筛分箱对废水中的大型废 弃物进行过滤筛分， 废水进入到箱体的内部后， 一号过滤板将废水中的大型废弃物进行过滤， 达 到防止废弃物对 管道堵塞的目的， 将净化后的废 水排放出箱 体的内部后， 一号过滤板过滤的废弃 物掉落在二号过滤板的顶部， 一号伸缩杆的顶端 收缩带动密封板移动， 电机的输出端转动带动刮 板移动， 刮板移动将二号过滤板顶部的废弃物清 理至废料箱的内部， 达 到清理废弃物的目的。 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 CN 216890410 U 2022.07.05 CN 216890410 U 1.一种高效率用于半导体行业的废水处理装置， 包括箱体(1)、 过滤器(5)和支撑块 (7)， 其特征在于： 所述箱体(1)的外壁安装有控制箱(2)， 所述箱体(1)的顶部安装有加药箱 (3)， 所述箱体(1)的内壁 安装有过 滤器(5)； 所述过滤器(5)的顶部安装有两组一号过滤板(501)， 所述过滤器(5)的内壁安装有筛 分箱(502)， 所述筛分箱(502)的内壁安装有二号过滤板(507)， 所述筛分箱(502)的外壁安 装有电机(503)， 所述筛分箱(502)的内壁安装有多组转动轴(504)， 且转动轴(504)位于二 号过滤板(507)的一侧， 转动轴(504)的外壁环绕安装有移动带(505)， 移动带(505)的外壁 安装有刮板(506)， 过滤器(5)的内壁安装有水泵(508)， 且水泵(508)位于筛分箱(502)的一 侧， 箱体(1)的内壁 安装有废料箱(5 09)， 且废料箱(5 09)位于过 滤器(5)的一侧； 所述箱体(1)的外壁 安装有动力箱(4)。 2.根据权利要求1所述的一种高效率用于半导体行业的废水处理装置， 其特征在于： 所 述箱体(1)的顶部安装有 进水管(101)， 且进水 管(101)位于加药箱(3)的一侧。 3.根据权利要求1所述的一种高效率用于半导体行业的废水处理装置， 其特征在于： 所 述控制箱(2)的正 面安装有多组按钮(201)。 4.根据权利要求1所述的一种高效率用于半导体行业的废水处理装置， 其特征在于： 所 述箱体(1)的顶部安装有除臭器(3 01)， 且除臭器(3 01)位于加药箱(3)的一侧。 5.根据权利要求1所述的一种高效率用于半导体行业的废水处理装置， 其特征在于： 所 述动力箱(4)的内壁安装有驱动机(401)， 驱动机(401)的输出端安装有支撑轴(402)， 且支 撑轴(402)的一端延伸至箱体(1)的内壁。 6.根据权利要求1所述的一种高效率用于半导体行业的废水处理装置， 其特征在于： 所 述筛分箱(502)的内壁安装有两组收纳箱(6)， 且收纳箱(6)位于二号过滤板(507)的一侧， 收纳箱(6)的内壁 安装有一 号伸缩杆(6 01)， 一号伸缩杆(6 01)的顶端安装有密封 板(602)。 7.根据权利要求5所述的一种高效率用于半导体行业的废水处理装置， 其特征在于： 所 述支撑轴(402)的外壁环绕安装有多组支撑块(7)， 支撑块(7)的内壁安装有两组马达 (701)， 支撑块(7)的内壁贯穿安装有转动杆(702)， 且转动杆(702)位于马达(701)的一侧， 马达(701)的输出端与转动杆(702)的一端通过皮带传动连接， 转动杆(702)的外壁环绕安 装有多组传送带(703)， 传送带(703)的顶部设有多组收纳槽(704)， 收纳槽(704)的内壁安 装有二号伸缩杆(70 5)， 二号伸缩杆(70 5)的顶端安装有板块(70 6)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216890410 U 2一种高效率用于半导体 行业的废水 处理装置 技术领域 [0001]本实用新型涉及废水处理技术领域， 具体为一种高效率用于半导体行业的废水处 理装置。 背景技术 [0002]因半导体涉及的行业很广泛， 半导体在生产制作时需要使用大量的水源， 随着半 导体的快速发展， 生产半导体时产生的废水也越来越多， 所产生的废水污染能力很强， 严重 的危害了生态环境， 因此对半导体废水的处理也是重中之重， 将半导体废水 处理后， 可减少 水资源的浪费。 [0003]现有的半导体行业的废水处 理装置存在的缺陷是： [0004]专利文件CN111573803A公开了一种半导体生产中废水处理系统， 保护的权项 “其 结构包括回用处理池、 废水 处理池、 固定框架， 回用处理池与废水 处理池均安装在固定框架 内， 废水处理池的出水端与回用处理池相通， 废水处理池包括池口、 投放机构、 池槽、 甲板、 出液口， 池口与池槽、 出液 口为一体化结构， 池口的内部设置有投放机构， 本发明在池口内 设有投放机构， 投放机构设有活动封口件打开腔口， 活动封口件的打开依靠承接添加剂的 容器打开， 利用外力被动打开的方式不仅适用性广泛， 同时腔口打开精度高， 使混凝剂可以 直接从腔口处投放， 避免池口受混凝剂腐蚀 ”。 但是该装置在使用时并不能对废水中的大型 废弃物进行 过滤， 容易造成管道堵塞。 实用新型内容 [0005]本实用新型的目的在于提供一种高效率用于半导体行业的废 水处理装置， 以解决 上述背景技 术中提出的不能过 滤大型废弃物的问题。 [0006]为实现上述目的， 本实用新型提供如下技术方案： 一种高效率用于半导体行业的 废水处理装置， 包括箱体、 过滤器和支撑块， 所述箱体的外壁安装有控制箱， 所述箱体的顶 部安装有加药箱， 所述箱体的内壁 安装有过 滤器； [0007]所述过滤器的顶部安装有两组一号过滤板， 所述过滤器 的内壁安装有筛分箱， 所 述筛分箱的内壁安装有二号过滤板， 所述筛分箱的外壁安装有电机， 所述筛分箱的内壁安 装有多组转动轴， 且转动轴位于二号过滤板的一侧， 转动轴的外壁环绕安装有移动带， 移动 带的外壁安装有刮板， 过滤器的内壁安装有 水泵， 且水泵位于筛 分箱的一侧， 箱体的内壁安 装有废料箱， 且废料箱位于过 滤器的一侧； [0008]所述箱体的外壁 安装有动力箱。 [0009]优选的， 所述箱体的顶部安装有 进水管， 且进水 管位于加药箱的一侧。 [0010]优选的， 所述控制箱的正 面安装有多组按钮。 [0011]优选的， 所述箱体的顶部安装有除臭器， 且除臭器位于加药箱的一侧。 [0012]优选的， 所述动力箱的内壁安装有驱动机， 驱动机的输出端安装有支撑轴， 且支撑 轴的一端延伸至箱体的内壁。说　明　书 1/4 页 3 CN 216890410 U 3